消耗臭氧層的物質有哪些作文
消耗臭氧層物質(ODS)主要來源於人工合成的一些含有鹵族元素的化合物,它們是造成平流層臭氧損耗的最重要因素,這些造成臭氧層破壞的化合物統稱為臭氧層損耗物質。目前的臭氧層損耗物質包括:1、氟氯化碳和哈龍,主要是氟利昂CFC-11、CFC-12等和哈龍Halon-1211、Halon-1301、Halon-2402;2、其他全鹵化氟氯化碳,如CFC-13、CFC-111等10種化合物;3、四氯化碳和甲基氯仿;4、氟氯烴類,如HCFC-21、HCFC-22等共74種;5、甲基溴。
在臭氧層的研究和保護過程中,特別受到關注的是氟利昂和哈龍類化合物。科學研究發現,這些物質在對流層中不發生光分解作用,也基本不在對流層被氧化,由於難溶於水,也不易被降水去除。因此這些臭氧損耗物質的大氣壽命相當長。科學研究表明,氟利昂類物質也是温室氣體,它們吸收紅外輻射的能力比二氧化碳要強得多,因此具有破壞臭氧層和影響全球氣候變化的雙重效應。
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